CVD化學氣相沉積碳鍍膜機特點:
■采用多層隔板設計,批量處理模壓光學鏡片的碳鍍膜工藝,每爐可放數千個鏡片;
■智能化PLC程序升溫程序,真空程序,CVD進氣程序,操作簡單方便;
■優質干式真空泵,杜絕油液污染,可選擇國產干式泵和進口干式泵;
■智能化CVD進氣控制系統,適應于氮氣、乙炔/甲烷、氬氣、空氣的通入和混合;
■的密封系統,泄漏率低,長期使用穩定性高;
CVD化學氣相沉積碳鍍膜機詳細資料:
主要用途
■適用于模壓非球面光學玻璃鏡片的碳鍍膜工藝;
■適應于半導體行業晶圓表面薄膜生長;
■可用于陶瓷及單晶體表面沉積碳納米管工藝;
產品技術參數
產品型號: DH-30-700(大華)
高溫度: 700℃;
使用氣氛: 氮氣、氬氣、空氣、二氧化碳、乙炔、甲烷、合氣體;
長期使用:400-700℃;
波 動 度: ±1℃;
顯示精度: 0.1℃;
均 勻 度: 容積30L;
進氣流量:三路MFC質量流量計控制,一路浮子流量計控制;
升降系統: 兩套伺服升降系統平臺;
控制系統:智能程序化PLC控制系統;
真空泵真空度: 極限真空1Pa;
腔內真空度:≤10Pa;
降溫要求:外置冷卻風機,降溫階段強制降溫;
整機功率: 18KW;
電 源 : 380V, 50Hz;
水冷裝置:優質水冷機,PLC聯機控制
保護裝置: 過載、過流、過壓保護,接地,熱電偶異常報警,第二回路超溫報警保護裝置;冷卻水溫保護,壓力過載保護;
技術服務: 提供設備使用過程中的技術咨詢和支持,接到客戶故障通知3個工作時內立即響應。