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我公司研發生產的CVD系統集真空管式爐，多通道氣路系統和真空系統組成,可根據用戶需要設計生產，各款管式爐，氣路系統和真空機組可多種方式組合，真空泵、閥均采用進口產品，性能可靠。控制電路選用模糊PID程控技術，具有控溫精度高，溫沖幅度小，性能可靠，簡單易操作等特點。CVD生長系統適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膜、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結構的可控生長、陶瓷電容(MLCC)氣氛燒結等實驗。
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