真空鍍膜超純水設備主要用途：電子電力行業用水，半導體行業，太陽能光伏行業（單晶硅、多晶硅、太陽能電池、氧化鋁坩堝、光伏玻璃），磁性材料用水，超純材料用水，清洗用水，清洗機配套用水，超純化學試劑配料用水，蓄電池（鉛酸、鋰、鋅錳）用水，精細化工配料用水，實驗高純水，鍍膜用水，電鍍行業用水（鍍金、鍍銀），高純墨水用水等

設備工作要點：
（一)、為了可以阻截較小顆粒物，所以纖維過濾柱孔徑不能超過5um，它起著保證進水清潔和延長下游部件使用壽命的重要作用。
使用泵在纖維柱出水口進行增壓，讓增壓后的水進入活性碳柱。水進入活性碳柱和R.O柱時所需要的一定壓力，被稱之為滲透壓。
(二)、廣泛使用的活性碳是一種吸附劑，它可以吸附水中存在的無機物和有機物;不過它的吸附能力對不同的物質也是存在差異的
(三)、經活性碳過濾后的水再進入R.O反滲透過裝置。反滲透膜的孔徑一般為10A到100A之間，所以它能夠去除95%以上的離子態雜質。
(四)、超純水設備的EDI工藝系統選用經過一次反滲透除鹽后的水作為進水，再經過EDI模塊內離子交換樹脂進行二次除鹽;這樣可以使純水制造過程連續化，它替代了傳統DI混合樹脂床制造去離子水的方法，避免使用酸堿再生;大量減少酸堿成本投入的同時也可以有效避免環境污染。

工藝流程：
1、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）(傳統工藝)
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）(新工藝)
3、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）(新工藝)
4、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(新工藝)
5、預處理系統→反滲透系統→中間水箱→純水泵→粗混合床→精混合床→紫外線殺菌器→精密過濾器→用水對象（≥15MΩ.CM）(傳統工藝)以上工藝各有各的優勢，你可以根據你自身的情況選購適合你的工藝。隨著科學的發展，很多新的工藝已經替代了舊的工藝，目前用反滲透法制取高純水已經普及，也是為現今的工藝。