陽極氧化通過選用不同類型、不同濃度的電解液，以及控制氧化時的工藝條件，可以獲得具有不同性質、厚度約為幾十至幾百微米的陽極氧化膜，其耐蝕性，耐磨性和裝飾性等都有明顯改善和提高。形成Al及鋁合金的陽極氧化所用的電解液一般為中等溶解能力的酸性溶液，鉛作為陰極，僅起導電作用。鋁及其合金進行陽極氧化時，在陽極發生反應。

氧化膜的生長過程就是氧化膜不斷生成和不斷溶解的過程。一段a（曲線ab段）：無孔層形成。通電剛開始的幾秒到幾十秒時間內，鋁氧化生產廠家，鋁表面立即生成一層致密的、具有高絕緣性能的氧化膜，厚度約0.01～0.1微米，為一層連續的、無孔的薄膜層，稱為無孔層或阻擋層，此膜的出現阻礙了電流的通過和膜層的繼續增厚。無孔層的厚度與形成電壓成正比，與氧化膜在電解液中的溶解速度成反比。因此，曲線ab段的電壓就表現出由零急劇增至*大值。

影響陽極氧化的氧化膜質量的因素有：

電解液中的雜質：在鋁陽極氧化所用電解液中可能存在的雜質有Clˉ，Fˉ，NO3ˉ，Cu2 ，Al3 ，上海鋁氧化，Fe2 等。其中 Clˉ，Fˉ，NO3ˉ使膜的孔隙率增加，鋁氧化加工廠，表面粗糙和疏松。若其含量超過極限值，甚至會使制件發生腐蝕穿孔（Clˉ應小于0.05g/L，Fˉ應小于0.01g/L）；當電解液中Al3 含量超過一定值時，往往使工件表面出現白點或斑狀白塊，并使膜的吸附性能下降，染色困難（Al3 應小于20g/L）；當Cu2 含量達0.02g/L時，鋁氧化廠家，氧化膜上會出現暗色條紋或黑色的斑點；Si2 常以懸浮狀態存在于電解液中，使電解液微量混濁，以褐色粉狀物吸附于膜上。

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